Čína začala vyrábět vlastní stroje, bez nichž se neobejde produkce vyspělých čipů. Litografická zařízení fungují jako mimořádně přesné projektory: pomocí světla přenášejí na křemíkové destičky nepatrné obrazce, z nichž následně vznikají elektronické obvody.
Čínský výrobce používá technologii hlubokého ultrafialového záření označovanou zkratkou DUV. Její pokročilejší imerzní varianta pracuje s tenkou vrstvou vody mezi čočkou a křemíkovou destičkou, díky níž dokáže vytvářet jemnější struktury. Takové stroje jsou zásadní pro výrobu čipů používaných například v automobilech, telefonech, počítačích nebo datových centrech.
Podle agentury Reuters za čínským projektem stojí státem podporovaná společnost Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. Pokud její zařízení obstojí v továrním provozu, Peking získá domácí alternativu ke strojům nizozemské společnosti ASML a sníží svou závislost na západních technologiích. Skutečný výkon čínského zařízení však zatím nebyl nezávisle doložen.
Zpráva přesto měla zásadní dopad na akcie ASML, jež v pondělí výrazně oslabily a v poklesu pokračují i v úterý. V době vydání tohoto článku ztrácely necelá tři procenta a obchodovaly se za 1389,60 eura za kus.
Má jít zatím o velmi malou sérii. Americký server The Information s odvoláním na dva informované zdroje uvedl, že šanghajský výrobce plánuje letos dokončit přibližně pět strojů a v roce 2027 zvýšit produkci zhruba na dvacet kusů. První zařízení mají obdržet čínští výrobci čipů SMIC, Hua Hong Semiconductor a CXMT.
Čínský stroj má před komerčním nasazením projít dalším testováním. Podle zdroje agentury Reuters zatím výrazně zaostává za zařízeními ASML. Rozhodující nebude pouze dosažené rozlišení, ale také přesnost skládání jednotlivých vrstev, rychlost zpracování waferů, výtěžnost a spolehlivost během dlouhodobého provozu.
Právě tyto parametry podle analytiků brání rychlým závěrům o ohrožení nizozemského lídra. „ASML chce letos disponovat kapacitou přibližně 130 imerzních DUV systémů a pro rok 2027 ji plánuje zvýšit o třicet procent,“ napsala k tomu stanice CNBC. Čínský projekt tak začíná na nesrovnatelně menším objemu.
Rozdíl zůstává také na technologické špičce. Pro nejmodernější procesory se používají stroje EUV s extrémním ultrafialovým zářením, jež Čína od ASML kvůli exportním omezením nakupovat nemůže.
Domácí imerzní DUV zařízení by přesto mohla pokrýt velkou část produkce méně vyspělých čipů a po opakovaných expozicích i některé pokročilejší výrobní procesy.
Vývoj je výsledkem dlouhodobé snahy Pekingu snížit závislost na zahraničním vybavení. Společnost Aishengna podle Reuters spojila týmy z několika čínských projektů, mimo jiné ze startupu Yuliangsheng a společnosti Shanghai Micro Electronics Equipment.
Část klíčových komponent však má nadále pocházet z Japonska a potíže v čínských dodavatelských řetězcích už letos výrobu zpomalily.
Analytici oslovení serverem CNBC také upozorňují, že bez výsledků továrních testů nelze posoudit skutečný výkon čínských strojů ani schopnost výrobce rychle navýšit produkci.
